关于全面覆盖原则：
当专利独立权利要求中记载的必要技术特征采用的是上位概念特征，而被控侵权物采用的是相应的下位概念特征时，则被控侵权物落入专利的保护范围。
"上位概念"即外延较大的"属概念"
"下位概念"即外延较小的"种概念"
例如：用“气体激光器”概括氦氖激光器、氩离子激光器、一氧化碳激光器、二氧化碳激光器等。其中“气体激光器”为"上位概念"，其余为"下位概念"。
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